ファブ内では、洗浄の質は乾燥の質次第です。洗浄後に残る水分や水痕、ストリークといったものが、特に28ナノメートル以下のサイズのウェーハでは、生産性を急速に低下させます。通常のホットプレートを使うと、温度変動が生じ、チャックが上下に動くたびに粒子が発生します。
そこで、迅速かつ正確に乾燥させるために、迅速なポスト洗浄用ランプドライヤーが必要です。
内部構造上重要な点 当社のランプは、石英製のケース内に短波長赤外線ハロゲンエミッターを搭載しています。応答速度が速く、そのスペクトルは水の吸収帯にちょうど合致しています。ウェーハ全体の温度ムラは±0.1℃以内に抑えられ、そのおかげで、ウェーハがソフトベイクやハードベイクの工程に移る際にもフォトレジストの品質が保持されます。
クリーンルームのクラス1～100を実現できるのは、ホットゾーンに粒子のない材料が使用されており、装置が層流空気流の中に設置されているからです。5,000時間以上使用しても出力のばらつきは5％未満であり、設定値も日々再調整する必要がありません。
なぜ生産現場で役立つのか 洗浄直後に、このランプは300mmのウェーハを数秒で乾燥させます。これにより工程時間が短縮され、ロット間の品質管理がより厳密になります。また、温度の再現性が高いため、温度変動による欠陥も減少します。
さらに、SWIRによってフィルムが直接加熱されるため、エネルギー消費も削減されます。再作業が減り、稼働時間が安定し、プロセスの条件も一定に保たれます。
準備すべきこと このランプはSECS/GEMを通じてホストコンピュータと通信できますが、温度を安定させるためには専用の電源供給装置と適切な排気機能が必要です。層流空気流を維持するために、ウェーハの上には12インチの余裕を確保してください。
設置にかかる時間は短いですが、洗浄から乾燥までの工程がランプの搬送速度に合致しているかを確認してください。