在光刻工序中，灰化室负责控制去除光刻胶时的温度。如果温度偏离设定值半度以上，就可能会导致残留物产生，更糟糕的是，还可能对下层的材料造成损害。只要有一块晶圆出现问题，整个生产流程就会出故障。而红外加热技术则能确保温度始终处于可控范围内。
从技术角度来说，什么才是关键？ 我们使用短波红外发射器来传递热量，这种方式能够快速、直接且精准地传递热量到光刻胶层上。在整个生产过程中，晶圆表面的温度均匀性可保持在±0.1℃以内。此外，由于该发射器不含石英成分，因此不会产生任何颗粒物，这正是1-100级洁净室所要求的条件。其重复性也相当高，不同批次之间的偏差不超过0.2%，无论是在软烘烤、硬烘烤还是蚀刻之后。
为什么这种技术能在生产中发挥作用？ 在生产过程中，灰化过程必须与整个生产线保持同步，同时还要避免产生废品。精确的温度控制可以缩短灰化时间，降低能耗。这样一来，残留物就会减少，缺陷密度也会降低，而且蚀刻后的晶圆尺寸也能保持一致。该系统可以直接与现有的炉子配合使用，无需对热界面进行改造，因此无需投资大量资金就能提高生产效率。
需要注意的问题是什么？ 由于红外加热需要直线传播，因此晶圆背面及金属层的反射率差异可能会影响热量的吸收。我们会调整发射器的尺寸并优化光谱，以平衡这种差异。不过，炉子的结构仍需确保晶圆能够被清晰地照亮。通常需要经过一段时间的调试才能让整个系统达到最佳状态——一旦设定好参数，整个工艺就能稳定运行了。