在制造车间里，清洗的效果其实取决于干燥的效果。清洗后留下的水痕、污渍以及未完全蒸发的水分，都会迅速降低产品良率——尤其是在28纳米以下的工艺中。使用普通加热装置的话，会出现温度滞后现象，而且每当夹持装置上下移动时，就容易产生颗粒物。
而采用快速干衣灯，就可以快速且精确地完成这一流程。
关键点在于： 我们设计的这种干衣灯采用了石英封装的短波红外卤素光源。它的响应速度很快，其光谱恰好处于水的吸收带范围内。如此一来，晶圆表面的温度均匀性可保持在±0.1°C以内，从而确保光刻胶在后续的软烘烤和硬烘烤工序中的稳定性。
由于该设备使用了无颗粒的材料，且位于层流空气罩之下，因此可以实现1-100级洁净度标准。其输出性能在5,000小时以上仍能保持稳定，偏差小于5%。此外，其设定值无需重新调整即可持续有效。
为什么它在生产中如此重要： 在清洗之后，这种干衣灯能够在几秒钟内将300毫米大小的晶圆完全烘干，而非几分钟。这大大缩短了处理时间，同时也提升了批次控制的精度。出色的温度稳定性则减少了因温度波动而导致的缺陷。
此外，由于短波红外光直接加热薄膜，而不是整个夹持装置，因此能耗也更低。这样一来，就不需要频繁返工，设备也能保持稳定的运行状态，工艺参数也能始终符合标准。
需要考虑的事项： 该干衣灯可以与SECS/GEM协议配合使用，以实现与主控系统的通信。不过，它需要独立的电源供应以及有效的排风系统，以维持稳定的温度。此外，还需要在晶圆路径上方保留12英寸的空间，以确保层流状态。
虽然调试过程很简单，但必须确保从清洗到干燥的过渡过程与干衣灯的输送速度相匹配。